产品中心

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单晶炉

单晶炉

应用于生长如钇铝石榴石(YAG)、掺钛蓝宝石等激光晶体和光学窗口的单晶材料，如氟化钙、氟化镁以及新型单晶材料的生长工艺和性能。通过改变生长参数，如温度、压力、气氛等，研究单晶材料的生长机制和性能变化规律，为开发具有特殊物理、化学性质的新材料提供基础，推动材料科学的前沿研究。

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石墨烯薄膜设备

石墨烯薄膜设备

晶圆薄膜静态生长立式CVD

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卷对卷薄膜连续生长CVD

卷对卷薄膜连续生长CVD

石墨烯薄膜生产能力（产业化）设备，宽幅卷对卷连续生长，APC系统：真空蝶阀自动控制，碳源等工艺气体MFC控制，薄膜制备过程全自动控制，三腔室结构。

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宽幅卷对卷薄膜连续生长炉

宽幅卷对卷薄膜连续生长炉

石墨烯薄膜产能（产业化）设备，宽幅卷对卷连续生长，配备自动纠偏，张力可连续调整，薄膜制备过程的全自动化控制。

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单壁碳纳米管生长设备

单壁碳纳米管生长设备

本设备主要基于化学气相沉积原理运作。在此过程中，含碳气体(如甲、乙炔等)作为碳源，在高温和催化剂的作用下分解，碳原子在催化剂表面发生化学反应并逐渐沉积进而生长形成单壁碳纳米管。

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真空氢气炉/退火炉/烧结炉

真空氢气炉/退火炉/烧结炉

应用于航空航天、电真空、热处理行业；可完成对铜、钛、钨、钼、铝箔、高速钢、不锈钢及蒙乃尔合金、坡莫合金等材料进行退火处理。对各种电真空器件的烧结、钎焊工艺。陶瓷材料、磁性材料和稀有难熔金属等材料进行还原、烧结、退火和表面处理等工艺需要。

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区熔炉

区熔炉

应用于半导体稀有金属提纯，如锗(Ge)、锑(Sb)、铋(Bi)等，区熔炉可利用杂质在固相和液相中溶解度的差异，通过多次区熔，将杂质集中在材料的特定区域，从而实现稀有金属的提纯。提纯后的稀有金属可用于制造特殊合金、半导体电子器件以及化工催化剂等。

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真空蒸馏炉

真空蒸馏炉

应用于碲单质的提纯制备。在半导体行业，用于制造如碲锌镉(CdZnTe)等半导体材料所需的高纯度碲，通过碲真空蒸馏炉提纯后的碲可满足半导体制造的要求;在热电材料领域，如碲化铋(Bi2Te3)、碲化铅(PbTe)等热电材料对碲的纯度有一定要求，碲真空蒸馏炉可对碲进行提纯，以提高热电材料的性能。

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挤压炉

挤压炉

应用于对高纯材料进行加热和挤压加工的设备，能使材料在特定温度和压力下通过模具成型广泛应用于多个领域

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摇摆炉/连熔炉

摇摆炉/连熔炉

高纯材料摇摆炉是一种专门用于处理高纯材料的设备，其核心特点在于具备摇摆功能。工作时，炉体可以进行一定角度和频率的摇摆运动。在加热过程中，将高纯材料置于炉内，通过电阻加热方式使材料达到预定的温度，同时炉体的摇摆能够促进材料的均匀混合、传热以及化学反应的进行，减少材料内部的温度梯度和成分偏析，从而提高材料的纯度和质量均匀性。

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