单壁碳纳米管生长设备
本设备主要基于化学气相沉积原理运作。在此过程中，含碳气体(如甲、乙炔等)作为碳源，在高温和催化剂的作用下分解，碳原子在催化剂表面发生化学反应并逐渐沉积进而生长形成单壁碳纳米管。
主要参数（可按要求定制）
● 加热区口径：φ350mm
● 工作温度：600-1200℃
● 温度控制精度：≤+2℃
主要特点
● 立式连续制备
● 工艺管：大口径石墨管
● 碳纳米管设备碳源：雾状喷洒，单头/多头
● 加热方式：立式多层加热器
● 设备不间断长期运行，特殊的省电设计和特点设计
● 立式长工艺管的拆装和维护：有特殊机构和装具
● 排放氢气点火装置
产品咨询
如果您有产品需求，请及时与我们联系，青岛赛瑞得伟创电子科技有限公司竭诚为您服务。
青岛赛瑞得伟创电子科技有限公司专注于高品质半导体加工设备，致力于为客户提供优质产品与服务。
邮箱：peng.liu@sunredvc.com
ruili.zhang@sunredvc.com
地址：山东省青岛市城阳区裕亭路16号
微信