真空蒸馏炉
应用于碲单质的提纯制备。在半导体行业，用于制造如碲锌镉(CdZnTe)等半导体材料所需的高纯度碲，通过碲真空蒸馏炉提纯后的碲可满足半导体制造的要求;在热电材料领域，如碲化铋(Bi2Te3)、碲化铅(PbTe)等热电材料对碲的纯度有一定要求，碲真空蒸馏炉可对碲进行提纯，以提高热电材料的性能。
主要参数
● 温区数：4段独立控温
● 最高温度：1100℃
● 工作温度：300-1000℃
● 温度控制精度：±1℃
● 真空度：2×10 -3 Pa
● 单炉产能：50kg
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