液相外延炉
LPE设备(Liquid Phase Epitaxial)是一种在液相中生长薄膜晶体的设备主要用于化合物外延膜的液相外延生长，YIG、RIG磁光铁氧体单晶材料生长等是光电子器件研制、生产中的关键工艺装备。
主要参数
● 温度：800-1250 ℃
● 温区数：5个
● 生长晶圆尺寸：2-6英寸
● 温度控制精度：±0.1℃
● 恒温区：>180mm
● 恒温区内上下两点之间的温差为±0.1℃。
● 坩埚转速：5-90rpm正反转控制，精度±0.5rpm
● 籽晶杆转速：10-1000rpm正反转控制，精度±0.5rpm
主要特点
● 自动化程度高，整个工艺流程由工业计算机自动控制完成。
● 具备镀膜程序定距外延、多次外延等功能。
● 具备工控机本地监视控制，也可以进行远程监视控制。
● 具备控制箱在线UPS功能及停电断点保护程序。
● 具备多点温度补偿功能。
● 具备多种故障报警及互锁功能。
● 具备手动/自动，自主切换功能。
● 软硬件具备轴向温度标定及检测功能。
● 设备支持GEM/SECS/MES控制集成全自动化功能。
● 预留真空功能。
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