无氧烘箱
无氧烘箱，半导体的无尘烘干等工艺。设备运行时，腔室内设定含量，系统根据腔室内的含氧量自动开启N2将腔室内的含氧量控制在设定范围内，防止材料在烘烤时被氧化。
主要参数
● 温度范围：RT+25-500°C
● 最高温度：500°C
● 工作温度：450°C，工作时长：30h
● 显示精度：±0.1°C
● 氧气含量：<5 ppm（氧气排出时间<60min）
● 降温方式：水冷，最高降温速率2℃/min
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