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石墨烯/碳纳米管CVD系列

卷对卷薄膜连续生长CVD

石墨烯薄膜生产能力(产业化)设备,宽幅卷对卷连续生长,APC系统:真空蝶阀自动控制,碳源等工艺气体MFC控制,薄膜制备过程全自动控制,三腔室结构。

宽幅卷对卷薄膜连续生长炉

石墨烯薄膜产能(产业化)设备,宽幅卷对卷连续生长,配备自动纠偏,张力可连续调整,薄膜制备过程的全自动化控制。

单壁碳纳米管生长设备

本设备主要基于化学气相沉积原理运作。在此过程中,含碳气体(如甲、乙炔等)作为碳源,在高温和催化剂的作用下分解,碳原子在催化剂表面发生化学反应并逐渐沉积进而生长形成单壁碳纳米管。

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